國研院攜手汎銓科技 突破EUV光阻分析技術
國研院27日舉行記者會，宣布國研院國儀中心攜手汎銓科技成功攻克新一代極紫外光製程後結構分析技術瓶頸。國研院院長蔡宏營（左3）、汎銓董事長柳紀綸（左2）等人出席。
中央社記者趙敏雅攝 115年10月27日
2026/10/27
授權種類說明
乙種授權照片僅能用於該授權種類用途、範圍，不能自行延伸使用，若有需用於其他種類或範圍，請再另外購買授權。
授權種類
使用範圍
必填
NT$ 1,000起
線上下載授權說明
- 所列標價皆以新台幣計價。
- 用本社購買使照片刊登於雜誌或書刊均以原價計費。
- 如使用於報紙、網站、廣告、宣傳品、展示（覽）之用，售價為原定價之三倍。
- 請於購買時正確選擇授權種類。
- 購買之圖片欲製作成平面媒體或電子媒體廣告，以作成一支廣告為限，售價為原定價之三倍。
詳細資料
原圖尺寸： 3367 × 2305 pixel
原圖解析度：300 × 300 dpi
照片編號： 20261027015500
關鍵字
熱門話題
最新照片
看更多照片
起始時間
結束時間
分類
全部分類
類型
排序
更多篩選
確定